めっき前の電極抵抗が大きく、めっきによる金属皮膜の膜厚変化とともに電極抵抗が大きく変化し、電解槽全体の電位分布が時間変化する場合の解析事例です。 先の事例では、電極抵抗が極端に小さく無視できると仮定しています。しかし、この場合は電極抵抗が無視できず、さらに電極抵抗が時間変化します。このよう な場合に、堆積要素と過電圧要素を使用して、電解液と電極を一括した解析を行います。 モデルは、左より39mmの位置に幅2mmの切り込みがある薄膜(シート抵抗100mΩ/□)に両端から給電し、硫酸銅めっきをした場合です。下段から薄 膜、堆積要素、過電圧要素、電解液、アノードの構成になっています。 |
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●解析条件
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モデル形状
解析結果
●等電位線図
めっき時間 5sec
めっき時間 15sec
めっき時間 1min
めっき時間 3min
めっき時間 10min
めっき時間 40min
●電流ベクトル図
めっき時間 5sec
めっき時間 15sec
めっき時間 1min
めっき時間 3min
めっき時間 10min
めっき時間 40min
●カソードの電位分布
 step1:5s setp2:15s setp3:30s setp4:1m setp5:2m |
 tep6:3m setp7:5m setp8:10m setp9:20m setp10:40m |
●カソードの電流分布
 step1:5s setp2:15s setp3:30s setp4:1m setp5:2m |
 step6:3m setp7:5m setp8:10m setp9:20m setp10:40m |
●カソードの膜厚分布
 step1:5s setp2:15s setp3:30s setp4:1m setp5:2m |
 step6:3m setp7:5m setp8:10m setp9:20m setp10:40m |