ASTEANモデルデータ入力仕様

●座標(m)

 槽構造、カソードおよびアノード配置、遮蔽条件など座標データを入力し、解析対象の形状を作成します。

●電気伝導度(S/m)

 電解(めっき)液の電気伝導度。電導度計にて測定します。

●電流−電位曲線(A,V)

 電解(めっき)液の電流−電位曲線。このデータは電気化学測定により得ます。関数形は線形およびターフェル近似で、
  入力はその係数です。さらに測定データをそのまま設定でき、この場合設定値の間は線形近似されます。

●電気化学当量(kg/C)

 電極反応による1C当たりの反応量。1C当たりの金属の析出あるいは溶解重量です。

●電流効率

 全電気量に対する、目的の反応に使用された電気量の割合です。

●密度(kg/m3)

 目的の反応に係わる金属の密度です。

●合金組成

 実験から得たデータより、電流密度の関数として合金組成のデータを入力します。

ASTEAN出力仕様

●電位分布(V)

 電位分布を各節点のスカラー量として出力します。

●電流分布(A/m2)

 電流密度を各節点のベクトル量として出力します。

●析出あるいは溶解膜厚(m)

 指定した部位の各節点のスカラー量として出力します。

●過電圧分布

 カソードおよびアノードの過電圧を、各節点のスカラー量として出力します。

●電解槽の全電流(A)

●電解槽の電圧(V)

●電解槽の抵抗(Ω)

●消費電力(W)

●合金めっき皮膜の組成


解析プログラム仕様

●2次元、軸対称、3次元問題をサポートしています。

●解法は、ブロックスカイライン法、CG法および反復法高速版を準備しています。解析モデルによって使い分けます。

●使用できる要素タイプ

 線要素一次(ROD)
 三角形要素一次(TRIA3)
 四角形要素一次(QUAD4)
 四面体要素一次(TETRA4)
 五面体要素一次(PENTA6)
 六面体要素一次(HEXA8)

●電極の境界条件の種類

 線形近似 ターフェル近似 多点近似(間隔は線形)

●定電流への収束機能

●時間スッテプの設定ができ、さらに各時間毎に電流値が設定できます。

●節点の移動機能があり、析出および溶解過程の形状変化を考慮した解析ができます。

●特殊要素である過電圧要素と堆積要素を使用して、電解液に電極を含めた解析ができ、電極抵抗を考慮した電流分布を求めることができます。

●特殊要素として短絡要素があり、電解槽のある部分とある部分を抵抗を指定して短絡することができます。

●シート抵抗要素を使い、薄膜への電気めっきの成長過程を容易に解析することができる。


材料特性データベースの仕様

●材料特性データベースの内容

 電気伝導度
 電流−電位曲線 一定で理想的な撹拌条件を仮定しています。
 電気化学当量
 電流効率
 密度

●代表的なめっき液

銅めっき 硫酸銅浴 プリント基板用
  硫酸銅浴 装飾用
  ピロリン酸銅浴  
ニッケルめっき ワット浴 ラック用
  ワット浴 バレル用
  スルファミン酸浴  
亜鉛めっき 塩酸浴  
クロムめっき サージェント浴  
すずめっき 硫酸浴  
金めっき 酸性金高濃度浴  
銀めっき シアン化銀厚付け用  


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