システムの特長
本システムでは、電解槽の電流分布を導体の定常電流場の問題に帰着させ、ＦＥＭにより解析を行います。解析により電解槽 の一次電流分布や二次電流分布を求めることができ、さらに反応の過電圧、膜厚など電解槽内のデータを得ることができます。さらに、ユーザをめっき技術者や 研究者に想定し、入力パラメータはめっき技術を前提に準備されており、めっきの製造現場、研究開発に即した解析ができます。このことにより次のような効果 が期待されます。
●電解槽の最適設計。 |
●最適運転条件の設定。 |
●消費電力、材料の節約、工程の時間短縮などによるコストの低減。 |
●試行錯誤の実験を省略し開発期間を短縮する。 |
●電解槽内部で起こっている反応や現象を推察できる。 |
●めっき技術修得のツールとなり、教材となり得る。 |
適用分野
●電気めっき ●電鋳 ●電池 ●電解研磨 ●陽極酸化 ●電気防食 ●電着塗装他 |
解析内容
●電解槽の電位分布 |
●電解槽の電流分布 |
●膜厚分布の予測 |
●槽構造（槽の形状、アノードとカソードの形状および配置）の検討 |
●電流分布改善手法（遮蔽、補助カソード、補助アノード、バイポーラコンダクタ他）の検討 |
●パターンめっき |
●部分めっき |
●電解液の性質の検討（電気伝導度、分極） |
●抵抗体電極 |
●電解槽の運転条件の検討 |
システム構成
動作環境
OS : Windows 7, 8, 10 64bit
CPU : Intel Pentium以上
メモリ：4G以上
ハードディスク：100GB以上
グラフィックス：OpenGL対応グラフィックス アクセラレータ（推奨）
CPU : Intel Pentium以上
メモリ：4G以上
ハードディスク：100GB以上
グラフィックス：OpenGL対応グラフィックス アクセラレータ（推奨）