システムの特長

 本システムでは、電解槽の電流分布を導体の定常電流場の問題に帰着させ、FEMにより解析を行います。解析により電解槽 の一次電流分布や二次電流分布を求めることができ、さらに反応の過電圧、膜厚など電解槽内のデータを得ることができます。さらに、ユーザをめっき技術者や 研究者に想定し、入力パラメータはめっき技術を前提に準備されており、めっきの製造現場、研究開発に即した解析ができます。このことにより次のような効果 が期待されます。
●電解槽の最適設計。
最適運転条件の設定。
消費電力、材料の節約、工程の時間短縮などによるコストの低減。
試行錯誤の実験を省略し開発期間を短縮する。
電解槽内部で起こっている反応や現象を推察できる。
めっき技術修得のツールとなり、教材となり得る。

適用分野

●電気めっき ●電鋳 ●電池 ●電解研磨 ●陽極酸化 ●電気防食 ●電着塗装他

解析内容

電解槽の電位分布
電解槽の電流分布
膜厚分布の予測
槽構造(槽の形状、アノードとカソードの形状および配置)の検討
電流分布改善手法(遮蔽、補助カソード、補助アノード、バイポーラコンダクタ他)の検討
パターンめっき
部分めっき
電解液の性質の検討(電気伝導度、分極)
抵抗体電極
電解槽の運転条件の検討

システム構成

動作環境

PC

 OS : Windows 7, 8 64bit
 CPU : Intel Pentium以上
 メモリ:4G以上
 ハードディスク:100GB以上
 グラフィックス:OpenGL対応グラフィックス アクセラレータ(推奨)
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